講座名稱：Machine Learning in EDA: When and How

講座人：余備 副教授

講座時(shí)間：6月28日14:00

地點(diǎn)：北校區(qū)東大樓220報(bào)告廳

講座人介紹：

余備，香港中??學(xué)計(jì)算機(jī)科學(xué)與?程系副教授，2010年畢業(yè)于清華?學(xué)計(jì)算機(jī)科學(xué)與?程系獲碩?學(xué)位，2014年畢業(yè)于美國德克薩斯?學(xué)奧斯丁分校電?計(jì)算機(jī)?程系，獲博?學(xué)位。 2014年?2015年在美國德克薩斯?學(xué)奧斯丁分校做博?后研究，從事集成電路設(shè)計(jì)?動(dòng)化(EDA)??的研究。在2021年獲得了IEEE CEDA 職業(yè)發(fā)展獎(jiǎng)（early career award），是亞太區(qū)學(xué)者第?次獲得這個(gè)世界級(jí)的獎(jiǎng)項(xiàng)。獲得過 IEEE TSM 2022, ICCAD 2021 & 2013, DATE2022, ASPDAC 2021 & 2012, ISPD2017、SPIE2016 等世界頂級(jí)期刊會(huì)議的最佳論?獎(jiǎng)，以及ASPDAC2023, MLCAD2022, DATE2021, DAC2014、ICCAD2011、ASPDAC2013/2019

等多次最佳論?提名。他在世界級(jí)CAD競(jìng)賽中榮獲多次世界前三名。 已發(fā)表超過90篇重要國際期刊論?和170余篇本領(lǐng)域重要國際會(huì)議論?。 擔(dān)任了計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)領(lǐng)域多個(gè)世界頂級(jí)期刊和國際重要會(huì)議的編委會(huì)委員和客座編輯，是IEEE TCCPS Newsletter的總編輯，同時(shí)也是IEEE CEDA香港分會(huì)的組委會(huì)委員。

講座內(nèi)容：

In this talk, we will explore the applications of machine learning in Electronic Design Automation (EDA) for improving the efficiency and quality of the design process. We will cover topics such as architecture design, physical design, and mask optimization, and discuss how machine learning can be used to enhance these areas. Specifically, we will examine how machine learning can help overcome the challenge of "small data" in IC design, how it can be used to customize for "large and binary"layout, and how it can assist in architecture search for industrial applications.

主辦單位：微電子學(xué)院